投资银行高盛指出,中国光刻机公司相较于美国同行存在至少20年的差距。光刻技术作为半导体制造的关键环节,目前已成为制约中国制造高端芯片的主要瓶颈。荷兰ASML公司制造着最先进的光刻机,但由于其依赖美国零部件,美国政府有权对其对华销售进行限制。