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阿斯麦CEO：High-NA EUV光刻改进方案已得到验证，预计2027至2028年大规模量产
2025-12-15
阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫·富凯称，公司为High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）设计的光刻改进方案已通过验证，成像效果与分辨率均表现优异。目前，公司正与客户合作，以提升该光刻系统的成熟度。据报道，阿斯麦将与客户紧密协作，确保High-NA EUV在明年内实现稳定运行，停机时间降至最低。富凯预计，该设备将在2027至2028年间实现大规模量产。
